ASML高NA EUV光刻机量产提速，释放光刻机行业技术军备竞赛升级信号，作为当前最先进的芯片制造设备，高NA EUV是突破3nm及以下制程的关键，其量产提速将加速半导体产业向更先进制程迈进，此举不仅凸显ASML在高端光刻领域的技术壁垒，也预示全球芯片制造商在先进制程领域的竞争将更趋激烈，推动整个产